最近看了泛科學介紹 ASML 的影片，一台機器賣 3、4 億歐元（約台幣 100 多億），還要排隊買，甚至大到要用三架波音 747 才載得完。
整理了幾個 ASML EUV 光刻機最反人類的硬核數據，分享給也對這台印鈔機感興趣的人。
1. 它的「光」是怎麼來的？
EUV（極紫外光）不是像燈泡一樣打開就有。它的產生過程簡直是一場微觀世界的核爆：
錫液滴： 機器內部每秒鐘會噴出 50,000 顆 直徑只有幾十微米的「熔融錫滴」。
雙重轟炸： 接著用高功率二氧化碳雷射去轟炸這顆錫滴。
* 第一發：先把錫滴打散成餅狀。
* 第二發：用更強的能量把錫直接氣化成「電漿 (Plasma)」。
發光： 這些電漿在冷卻瞬間，才會釋放出波長 13.5nm 的極紫外光。
重點： 這一切每秒鐘要精準發生 5 萬次，只要歪一點點，幾億美金的機器就廢了。
2. 蔡司 (Zeiss) 的鏡子到底有多平？
EUV 光會被所有物質吸收（包含空氣和玻璃），所以光刻機裡面是真空的，而且不能用透鏡，只能用「反射鏡」來導光。
這些由德國蔡司製造的鏡子，號稱是宇宙中最平滑的物體，如果把這面鏡子放大到地球這麼大，上面的凸起誤差不能超過 0.2 毫米（大約一根頭髮的厚度）。
3. 對準精度是什麼概念？
光刻機要把電路圖縮小投射到晶圓上，晶圓台移動的速度極快，但停下來曝光時又要極準。它的對準精度大約是 1 奈米 左右。這相當於你要在月球上，用雷射筆射中地球上的一枚硬幣，而且這枚硬幣還在一輛高速行駛的跑車上。
4. 2026 年的霸主：High-NA EUV
如果你覺得上面的標準型 EUV (NXE 系列) 已經很強了，現在台積電跟 Intel 在搶的 High-NA EUV (EXE 系列) 更是怪物。
關鍵差異： NA 值（數值孔徑）從 0.33 提升到 0.55。簡單說就是把「鏡頭光圈」變大，能解析更細微的線條。這是為了 2nm 以下 (甚至 1.4nm / A14) 製程準備的。代價就是機器變得更大，價格直接翻倍（逼近 4 億歐元），而且光路設計完全改變，鏡頭變形更難控制。
這台超貴的印表機，這根本是集結了人類物理學、光學、材料學、自動控制巔峰的藝術品。難怪世界上只有 ASML 做得出來，這護城河不是普通的深啊...大家覺得 High-NA 之後，光刻機還有物理極限嗎？